(3) 等离子体辅助抛光：等离子体辅助抛光是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法，采用特定气体，制成活性等离子体，当活性等离子体与工件表面作用，发生化学反应，生成易挥发的混合气体，从而将工件表面材料去除。由于玻璃研磨时，机械作用是主要的，所以磨料的硬度必须大于玻璃的硬度。 光学玻璃和日用玻璃研磨加工余量大，所以一般用刚玉或天然金刚砂研磨效率高。平板玻璃的研磨加工余量小，但面积大，用量多，一般采用价廉的石英砂。

普遍打蜡 剂原材料有红粉（钝化反应铁）、钝化反应铈、钝化反应铬、钝化反应锆、钝化反应钍等，家电波璃处理还有用于长石粉的。光电技术仪器薄膜软件创新型打蜡 剂系统性相对 光电技术仪器薄膜波璃处理，中国传统的考虑机及打蜡 剂办法，从表面能粗糙度和速度角度已不能适用应。现有成长 了众多新的处理系统性，如数控生产制作考虑机和打蜡 剂系统性、正离子束打蜡 剂系统性、刚度盘打蜡 剂系统性、超均匀表面能处理系统性、突出主题性电火花生产制作处理、黏性发射卫星打蜡 剂法、脉冲光打蜡 剂、震荡打蜡 剂等，一些新系统性，已根本习惯光电技术仪器薄膜层面趁势成长 的让。光电技術透镜新的工艺技術，都边判断、边测量，除了工艺gps精性强，而工艺速度慢提生好几倍到几百倍，对人工服务技術的依赖型性已极其小，新碾磨和拋光技術的智慧化系数都很高，多次重复gps精性强。数铣碾磨和拋光、刚度盘拋光技術等，正规应对曲面镜和 非曲面镜光电技術透镜的工艺，极其的规范化。